2100℃真空钨丝烧结炉为实验室用2100度高真空加热炉，采用钨加热元件+钨钼金属屏，搭配真空分子泵机组，真空度可达6.67*10-4pa。

这款2100℃高真空钨丝烧结炉专为实验室应用而设计。该高真空钨丝加热炉采用钨加热元件和钨钼金属屏，能够提供高达2100℃的加热温度。配备真空分子泵机组，实现真空度高达6.67*10^-4pa，确保实验过程中的高纯度环境。这款高真空炉子适用于各种试验研究，特别是对高温条件和高真空环境要求严格的实验项目。

主要技术参数：

2100℃真空钨丝烧结炉是一种专为实验室设计的高温高真空加热设备，其特点可以从多个方面进行分析和总结。

从加热元件的角度来看，该炉采用钨加热元件加钨钼金属屏的设计，这种设计有助于提高加热效率和均匀性。钨材料因其优异的高温稳定性和低膨胀系数而被广泛应用于高温加热设备中。

钨钼金属屏的使用进一步增强了设备的隔热性能和使用寿命。

在真空度控制方面，该炉配备有真空分子泵机组，能够实现高达6.67*10^-4pa的真空度。这一高真空环境对于烧结过程中的热处理和材料合成至关重要，因为它可以有效减少气体分子对样品的影响，从而提高烧结质量和成品的纯度。

此外，该高真空高温炉的设计还考虑到了操作的安全性和设备的紧凑美观性。根据证据，当前的研究重点在于高温、高真空、高洁净化热区环境的同时，兼顾设备的使用安全性、外观的紧凑和美观性。

这意味着2100℃真空钨丝烧结炉不仅在技术参数上满足高标准要求，而且在设计上也充分考虑了用户的实际需求和使用体验。

从功能性角度来看，该炉不仅可以进行常规的退火处理，还能通过熔断装置进行淬火处理，这为实验室提供了更多的实验选择和灵活性。

同时，考虑到新材料研发的需求，该炉能够支持复杂的烧结工艺，如功率芯片的组装等，这些工艺通常需要特定的温度和气氛条件。

2100℃真空钨丝烧结炉的特点主要包括：采用钨加热元件加钨钼金属屏的设计，提供高效率和均匀的加热；具备高真空环境，有利于提高烧结质量和成品纯度；设计注重安全性和设备的紧凑美观；支持多种实验需求，包括退火、淬火以及复杂的新材料烧结工艺。这些特点使得该高真空钨丝加热炉成为实验室中进行高温高真空烧结研究的常用高温电炉。

工作原理：

2100℃高真空钨丝烧结炉的工作原理是利用钨加热元件产生高温，并通过钨钼金属屏来传导热量和保护加热元件。真空分子泵机组用于抽取炉腔内的气体，实现高真空环境。当炉子启动时，加热元件开始加热，提升炉腔温度至设定值。同时，真空分子泵将炉腔内的气体抽除，使真空度达到真空水平。这样就可以在高温高真空的条件下进行材料的烧结、退火或其他实验过程。整个系统运行稳定可靠，能够满足实验室高温高真空条件下的实验需求。

主要用途

周期作业式，在真空或气氛保护情况下对物料进行无污染热处理的设备。

结构组成

2100℃高真空钨丝烧结炉采用井式结构设计，顶部进出物料，该2100℃高真空钨丝烧结炉是由炉体、炉盖、炉架、控制系统、冷却系统、发热体及隔热屏、真空系统等组成。

结构特点

 1、炉体：为立式炉壳，其内、外层均为304不锈钢做成的圆筒，外层镜面抛光处理。内外筒与前后法兰焊成一个整体，炉体开有电极孔、抽气孔、放气孔、热电偶孔、红外孔及观察孔等，各接口的材质均为不锈钢。

2、炉盖：由内外封头和法兰焊成，中间可通水冷却，炉盖开启装置。

3、炉底：由内外封头和法兰组成，中间通水冷却，下部设有充放气孔，固定在炉体下部，设有电极引出装置。

6、发热体及隔热屏：发热元件采用高纯钨制作成网状，有效增加辐射面积，保证温区的均匀性。隔热屏采用4层钨板，6层钼板，最外层采用不锈钢板支撑。

7、真空系统：

1）、主要由直联泵、分子泵，气动挡板阀、电磁截止阀、数显复合真空计、真空管路、放气阀、支架等组成；真空管道与泵之间采用金属波纹软管快速接头联接（减缓震动）。

2）、真空主抽泵直联泵（北仪优成）、分子泵（北京科仪）。

3）、气动挡板阀（川北科技）GDQ-150 1台  GDQ-J40  2台

4）、成都正华数显真空计1台。

5）、真空管路1套，由波纹管、三通管、真空泵、两个40的真空挡板阀、接口弯管等组成（波纹管内Φ40，三通管为40标准尺寸）。

 8、控制系统：采用厦门宇电智能温控仪表，30段程序控温，具有PID控制，温度能控制得很准确；具有过温保护、过流保护和断偶时电炉加热电路自动切断等功能。

10、水冷系统：炉体、上下端盖采用夹层水冷的结构形式，在进出水主管路上安装水压继电器及压力表，同时与控制柜连接，异常状态时报警。能够定性的观察各分水路的水流大小。整个水冷系统确保各分路回水温度不高于40℃（进水温度20℃）。水冷系统主进直径50mm、回水管直径50mm（进水压力0.4MPa）。

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