实验室用PECVD系统设备
PECVD系统简介
为了降低化学沉积温度，利用了等离子体的活性来促进反应，这种CVD系统称之为等离子体增强型化学气相沉积系统（PECVD），该PECVD系统设备可以根据气体的种类数量、射频功率大小、气体是否需要预热、沉积所需温区随意定制。
PECVD系统主要参数
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型号 |
STR1200-PE60 |
STR1200-PE60Y |
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工作温度 |
≤1000℃ |
≤1000℃ |
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升温速率 |
10℃/min |
10℃/min |
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气体预热区 |
无 |
200mm |
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沉积区长度 |
200mm |
440mm |
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恒温区长度 |
100mm |
220mm |
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石英管管径 |
50/60mm |
50/60/80-100mm |
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控温方式 |
30段PID程序控温 |
30段PID程序控温 |
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射频功率 |
100/300/500W自匹配 |
100/300/500W自匹配 |
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射频频率 |
13.56Mhz |
13.56Mhz |
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真空泵抽速 |
4L/s |
4L/s |
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真空度 |
≤10Pa |
≤10Pa |
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进气种类 |
1~4种 |
1~4种 |
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功率 |
220V/4kw |
220V/7kw
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