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1200度多温区真空气氛管式炉采用高纯石英管或高纯氧化铝管作为炉管，工作温度区间800℃至1200℃，具有多个温区，每个可以单控温。STR1200度多温区真空气氛管式炉具有安全可靠，操作简单，控温精度高，保温效果好，炉膛温度均匀性高，可通气氛抽真空等特点，

真空管式炉以质硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，具有真空装置，可以通气氛抽真空，真空泵可以根据客户要求的真空度选配，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等点。

1200度多温区真空气氛管式炉主要用途：

高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火、碳纳米管及归纳米线制备等。广泛应用于高等院校，科研院所，工矿企业等实验和小批量生产。 

1200度多温区真空气氛管式炉详细参数