小型PECVD管式炉系统由高温管式炉、石英真空室、真空系统、混气系统、射频电源系统等组成。
小型PECVD管式炉主要使用于:金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,石墨烯等生长。增加功能容易,可扩展等离子清洗刻蚀等功能。该PECVD系统具有: 薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等优点。
RF射频电源为实验室PECVD管式炉用小型RF射频电源。
射频收发核心电路射频即Radio Frequency,通常缩写为RF。表示可以辐射到空间的电磁频率,频率范围从300KHz~30GHz之间。
RF电源是产生等离子体的配套电源,由射频功率源,阻抗匹配器以及阻抗功率计组成
射频电源的用途及工作原理:射频电源是用于镀膜设备中旅,通过该设备中的功放模块产生高频电压、电流,将常规使用的220V电压和频率50/60MHZ转换为可变的13.56MHZ电压电流。
RF射频电源主要技术参数:
功率输出范围 |
0-500W |
反射功率 |
200W |
工作频率 |
射频:13.56MHZ±0.005% |
功率稳定度 |
+/-0.1% |
谐波分量 |
≤-50dbc |
射频区域宽度 |
0-600mm 可调 |
匹配方式 |
自动 |
冷却方式 |
分冷 |
噪声 |
<50dB |
射频接口 |
50Ω N-type |
输入电源 |
208-240V 50/60HZ |
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