当前位置: 电炉选购 >实验室用PECVD系统设备
实验室用PECVD系统设备
名称:PECVD厂家 发布时间: 2020-11-10 点击数:167
PECVD系统简介
为了降低化学沉积温度,利用了等离子体的活性来促进反应,这种CVD系统称之为等离子体增强型化学气相沉积系统(PECVD),该PECVD系统设备可以根据气体的种类数量、射频功率大小、气体是否需要预热、沉积所需温区随意定制。
PECVD系统主要参数
型号 |
SGM1200-PE60 |
SGM1200-PE60Y |
工作温度 |
≤1000℃ |
≤1000℃ |
升温速率 |
10℃/min |
10℃/min |
气体预热区 |
无 |
200mm |
沉积区长度 |
200mm |
440mm |
恒温区长度 |
100mm |
220mm |
石英管管径 |
50/60mm |
50/60/80/100mm |
控温方式 |
30段PID程序控温 |
30段PID程序控温 |
射频功率 |
100/300/500W自匹配 |
100/300/500W自匹配 |
射频频率 |
13.56Mhz |
13.56Mhz |
真空泵抽速 |
4L/s |
4L/s |
真空度 |
≤10Pa |
≤10Pa |
进气种类 |
1~4种 |
1~4种 |
功率 |
220V/4kw |
220V/7kw
|
标题: PECVD介绍网站
链接:http://wwww.zzdianlu.com//dianlu/882.html
链接:http://wwww.zzdianlu.com//dianlu/882.html
相关资讯
- 2024-07-301200度负极材料气氛烧结炉:2路混气多点进气气氛炉
- 2024-07-30硅基负极材料的包裹技术介绍
- 2024-07-30负极材料箱式炉
- 2024-07-241200度高温箱式电炉:SGM M12-12人工智能箱式电阻炉
- 2024-07-241600度真空气氛炉
- 2024-07-241000度气氛排胶炉