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  • CVD化学气相沉积炉

CVD化学气相沉积炉

  • 电阻炉名称:CVD化学气相沉积炉
  • 电阻炉类型:钟罩炉\升降炉
  • 电阻炉厂家:西格马钟罩炉\升降炉
  • 电阻炉规格:
  • 电阻炉温度:1000℃、1200℃、1400℃℃

CVD化学气相沉积炉由开启式单(双)温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。CVD化学气相沉积炉可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。

 

主要用途:

高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验,特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。

 

主要功能特点:

1、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成,真空可达0.0001Pa;

2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制;

3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计,流量显示仪等组成,实现气体的流量的精密测量和控制;每条气体管路均配备高压逆止阀,保证系统的安全性和连续均匀性。

4、采用KF快速法兰密封,装卸方便快捷;管路采用世界*Swagelok卡套连接,不漏气;

5、超温、过压时,自动切断加热电源及流量计进气,使用安全可靠。

 

主要技术参数:

SGM TF-1200

管式炉

控温方式

采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,并可编制30段升降温程序。

加热元件

0Cr27Al7Mo2

工作电源

AC220V    50HZ/60HZ

额定功率

4KW

炉管尺寸

Φ60/Φ80/Φ100*1000mm

工作温度

≤1150℃

设计温度

1200℃

恒温精度

±1℃

加热区长度

440mm或220mm/220mm

升温速度

≤20℃/min

密封方式

不锈钢快速法兰挤压密封

真空系统

真空范围

0.1-0.001Pa

极限真空

4.0*10^-4Pa

产品配置

双级旋片真空泵+分子泵

测量方式

复合真空计

真空规管

电阻规+电离规

冷却方式

风冷

工作电源

AC220V 50/60HZ

抽速

110L/S

真空系统

测量范围

5~1*10^-5 Pa

稳压(真空)范围

1~5*10^-3Pa

压力(真空)稳定精度)

±3%

控制范围

2.5*10^3~1*10^-4 Pa

控制精度

± 1%

混气系统

控制方式

D07-7K质量流量计,D08流量显示仪

流量规格

0-500SCCM /0-1SLM,(可根据客户需要配置)

线性

±1%F.S

准确度

±1%F.S

重复精度

±0.2%F.S.

响应时间

≤2sec

耐压

3MPa

气路通道

3通道(根据客户需求)

针阀

316不锈钢

管道

Φ6mm不锈钢管

接口

SwagelokΦ6mm

 

影响价格报价因素:

多少钱一台? 厂家品牌不一样,价格也有所差别。另外,需要根据的温度、炉膛尺寸、环境要求等详细参数才能确定, 影响CVD化学气相沉积炉价格因素有:电炉材质、CVD化学气相沉积炉炉膛尺寸、CVD化学气相沉积炉设计温度、真空度、电子仪表等综合配置需求。请咨询洛阳智能马弗炉厂家获取CVD化学气相沉积炉详细技术与价格

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